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变革性光科学与技术丛书——《机器视觉中的光学成像及缺陷评价》
在先进光学制造与超精密加工领域，实现表面缺陷（如划痕、麻点、气泡）的数字化定量检测，是保障技术可持续发展的关键环节。随着制造业对产品质量和竞争力的日益重视，广泛
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FIS4-NIR红外波前传感器测量的前沿应用
自2006年，浙江大学杨甬英教授团队推出径向剪切波前检测，历经17年潜心研发，杨甬英教授团队推出宽光谱FIS4系列波前传感器，通过创新算法，2023年实现了从像差解析到成像质量评估的全维度稳定检测。
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FIS4-UV紫外波前传感器助力半导体/光刻机行业发展！
自2006年，浙江大学杨甬英教授团队推出径向剪切波前检测，历经17年潜心研发，杨甬英教授团队推出宽光谱FIS4系列波前传感器，通过创新算法，2023年实现了从像差解析到成像质量评估的全维度稳定检测。
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晶耐科光电 | 2025年4月杭州国际光电博览会展会回顾
展会回顾为期三天的2025杭州国际光电博览会圆满落下帷幕，晶耐科光电作为展会的积极参与者，始终以技术创新为核心驱动力，深耕高端光电检测和量测装备领域。02现场交
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晶耐科邀您共赴2025杭州国际光电博览会
展会概况 ▼ Exhibition Overvie光电产业作为21世纪***重要的产业，深刻影响着各行各业的发展。2023年全年，全球光电产业市场将进入稳定发展
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2025年3月慕尼黑上海光博会圆满收官！
再次衷心感谢大家的关注与期待落幕不散场期待与您的下一次相见2025慕尼黑上海光博会圆满落幕，感谢新老朋友的莅临与指导，也感谢每一位客户对我们的信任与支持!虽然展
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光学微纳检测技术论坛——杨甬英教授专题演讲
演讲嘉宾杨甬英，浙江大学，教授演讲题目FIS4四波剪切干涉传感技术在微纳光学检测中的应用演讲时间2025年3月12日上午10：00演讲地点上海新国际博览中心E7
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晶耐科诚邀您共赴2025慕尼黑上海光博会
会议邀请 慕尼黑上海光博会 2025.3.1113 地址：上海新国际博览中心
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